二手 PELCO 3 #159054 待售

PELCO 3是一種專門為等離子體蝕刻而設計的等離子體濺射設備，其中氙氣是使用的濺射氣源。等離子體蝕刻是利用離子轟擊原理修改基板表面的過程。這個濺射系統包括一個真空室、一個氣箱、一個等離子體室和一個基板級，以及幾個附件。在真空室內部，引入了氙氣，通過與之相連的真空泵將壓力降低到真空水平。氣體然後被輸送到等離子體室，在那裏它被射頻（RF）功率激發。這種能量激發或電離氣體分子，形成等離子體。等離子體使氣體分子解離，在高能級產生一個原子或分子分數的氙原子。受激發的氙原子和分子高速運動，轟擊目標表面，誘發物質沈積。待處理的基板放置在腔室的基板級，其表面暴露於等離子體。然後對目標表面進行濺射和蝕刻,生成薄膜層。3單元配備了幾個特點，使其適合與多種應用一起使用。這些特點包括廣泛的可編程參數，如壓力控制、氣流控制、氣體消耗、氣體凈化、基板溫度等，允許對整機進行非常精細的控制。此外，PELCO3還有一個自動檢測工具，可以感應基板放在舞臺上的時間，並允許相應的編程操作。它還具有內置的安全資產,設計用於在發生意外事件（如電源故障）時關閉模型,從而確保設備安全使用。3濺射系統設計方便，效果可靠。主要部件，如真空室、等離子室、基板級都是預組裝的，減少了設置時間，便於維護。整個單元還無線連接，使用戶可以從遠程位置控制和監控機器，提高操作效率。總體而言,PELCO3等離子體濺射工具可靠性高,使用方便.它的特點和配件使得它適合廣泛的應用，使得它非常適合薄膜塗層和蝕刻。