二手 PERKIN ELMER 2400-8L #39101 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
2400-8L
ID: 39101
優質的: 1990
Sputtering system System: Multi-target RF-Diode sputtering system w/ 8" load-lock substrate table 6 1/2" dia. PLC controlled substrate heating for 650°C Sputter Sources 3x 8" DC-Cathodes, 1 etch station(optional 4. target) Vacuum: Leybold TurbVac450 Power Supplies: DC-Power supply, 2.5kW 1990 vintage.
PERKIN ELMER 2400-8L Sputtering Equipment是一種用於薄膜沈積的通用工具,專為精確和可重復性而設計。該系統配備了先進的特性和功能,包括直徑可達8英寸的腔室尺寸、高功率目標濺射源以及先進的腔室自動化。目標和基板可以獨立移動和定位,從而增強過程控制和沈積均勻性。濺射工藝具有很高的可重復性,使2400-8L成為精密、精密地沈積薄膜的理想裝置。該機采用自動基板運動機構,可實現高效、可復制的效果。該工具利用射頻或直流電源將薄膜濺射到基板上。這兩個進程相互獨立,這允許更高程度的控制和定制。該工藝的靈活性意味著不同的材料層可以相互濺射,從而產生更復雜的納米結構。該資產采用高真空室,允許在高壓下均勻沈積材料,而不會損害表面的完整性。在一個均勻的循環室內,可以達到低至4x10-6 Torr的真空水平。這允許保形層的非常精確、均勻的沈積和可靠的器件性能。可調溫室設計為沈積過程提供了額外的靈活性和控制水平,使材料的應用能夠不同的基板,或補償組件的內在類型。該型號具有集成的保護屏蔽,以確保最小程度地暴露於濺射材料中。包括運行結束中斷和自動基板返回功能也有助於保護設備及其部件。通過自動校準和功率平衡功能、可用的數字顯示、遠程訪問和控制能力以及主動PFPE保護,進一步提高了系統的高性能和精度。PERKIN ELMER 2400-8L專為使用壽命和可靠性而設計,內置了多種安全功能,以及一個堅固的電子設備,可長時間可靠運行。該機器非常適合各種薄膜沈積應用,從小型中試零件到大批量制造。
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