二手 PERKIN ELMER 2400-8L #9193484 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
2400-8L
ID: 9193484
Sputtering system (3) Cathodes: 8" Sputter configuration: RF/DC Load-lock Turbo pumped Table spacing: Adjustable cathode-substrate Substrate pallet diameter maximum: 6.5".
PERKIN ELMER 2400-8L是一種裝有三個濺射源的濺射設備,可以有效和均勻地沈積薄層。它專為需要沈積各種材料薄層進行樣品分析或制造的材料研究而設計。該系統非常適合用於輝光放電光發射光譜(GDOES)應用和非均質基板層的沈積。該裝置具有8英寸直徑的濺射室,配置有射頻電源、13.56 MHz射頻匹配網絡和三個濺射源。射頻電源的設計可提供高達1 kW的功率,而射頻匹配網絡可精確調節5至12 kV之間的電壓和電流。運動系統安裝在堅固的結構上,以便對樣品腔內徑為8.3英寸的基板進行精確和可重復的定位。三種標準的濺射源設計為適應不同的材料組合和多重磁控管配置。每個源具有1.675英寸的噴嘴直徑,以極好地控制濺射組件,以及6英寸直徑的不銹鋼源室,可減少聚焦離子束(FIB)基板的磨損。從濺射源產生的磁場是可調的,允許獨特的設計特點,提高濺射均勻性和沈積速率。還提供了三通道可調計時器,以便精確控制濺射過程。所有這些功能為沈積和可復制過程提供了出色的靈活性和精確控制。該機器安裝在一個普通的鋼制外殼中,設計用於所有部件的最佳訪問。前面板具有功能齊全的控制/顯示單元,可輕松訪問流程參數和數據采集。簡單明了的圖形用戶界面(GUI)使用戶能夠快速輕松地設置和監視該工具。總之,2400-8L是材料研究的理想濺射資產,需要沈積薄層進行樣品分析和制造。該型號配備三個濺射源和可調定時器,用戶友好,為沈積和可復制過程提供出色的靈活性和精確控制。
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