二手 PERKIN ELMER 2400 #9215991 待售
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ID: 9215991
Sputtering system
With load lock
Platen optimum, 4.5"-8"
Gun, 2"-3"
With PLC control
PLC / PC With data logging
W-10
Remote access
Load lock reduces pump down time
Anode / Cathode spacing remotely adjustable
Heat / Cool substrate table
Automated for high production throughput
Optional heat / Cool table: 600° With rapid cool down
(3) Cathodes diameter, 8"
Round targets, 8”
Vacuum station: Turbo molecular / Diffusion-pump
Tuning: Randex Servo-match automatic tuning
LEYBOLD 450 Turbo pump
No mechanical pump
No RF generator
Substrate table:
Water-cooled, 8" diameter
Etch / Bias operations:
Up to 1 kW Etch
Variable bias: 0 to 50%
Shutter:
Stainless steel cup
Vertical and radial adjustment
Control & meters:
Manual override toggle switches for load and tune controls
Target selector
Mode selector
Shutter position switches
Bias adjust potentiometer
RF Power adjust control
RF Power ON / OFF push button
Table bias
Forward power
Reflected power meter
RF Power supply: 1 & 2 kW Controlled remotely from sputtering module.
PERKIN ELMER 2400是一種高端濺射設備，設計用於將可濺射材料的薄層沈積到基板上。它能夠以高沈積速率生產薄的均勻塗層，可用於光學、表面敏感和磁性器件等各種應用。該系統通過其兩源和四源系統提供了先進的濺射塗層功能,這些系統根據所沈積材料的類型采用不同的配置。無論哪種情況，該裝置都采用高通量、高真空平臺，允許在不過度加熱或氧化的情況下進行薄層沈積。2400采用自動化工藝,允許從20埃（A）到5000 A的精確可重復塗層。該機器可選擇兩個或四個濺射源,每個濺射源可單獨調整以提供對沈積過程的更大控制。它還具有一個集成惰性氣體大氣層，該大氣層中包含了一個氙氣或其他稀有氣體，以保持一個一致的電荷，而不是環境空氣。該工具還具有用於監測和調節過程參數（如溫度、氣體混合物和功率級別）的高級控制。四源配置使用戶可以在單個塗層過程中輕松地在不同的可濺射材料之間交替使用,從而使他們能夠訪問各種可能的塗層成分。在基板加工方面，PERKIN ELMER 2400可以同時容納平面和彎曲的基板，形狀和尺寸各異。使用它的可調整和易於拆卸的鐘形密封，資產確保均勻流動的材料和一致的薄膜結果。除了濺射塗層功能外，2400還提供X射線熒光（XRF）和俄歇電子光譜（AES）等高級分析能力。XRF掃描樣品表面的化學成分，而AES提供在塗層材料表面發現的分子結構指紋。兩者都允許研究人員進行進一步調查，必要時調整沈積參數。總體而言，PERKIN ELMER 2400旨在為研究設施、實驗室和其他工業應用提供終極塗層解決方案，使用戶可以方便地為各種項目存放薄膜材料。該模型具有自動化控制、廣泛的設置和先進的分析功能,是一種可靠且用途廣泛的濺射設備,能夠滿足任何實驗或開發環境的需求。
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