二手 PERKIN ELMER 4400 #293585638 待售

PERKIN ELMER 4400濺射設備是將薄膜和塗層沈積到半導體基板上用於微電子和光電應用的高性能工具。它是一個單晶片負載鎖定系統，配有RF或直流濺射源和標準雙區電子回旋共振（ECR）等離子體蝕刻源。它有一個可容納最多兩個晶片的樣本室，與4、5和6英寸的晶片尺寸相當。它允許真空範圍高達2 x 10-5 Torr，工作壓力為2 x 10-4 Torr，最大濺射溫度高達500 °C。射頻或直流濺射裝置配有獨特的可變離子屏蔽/磁阻尼機，能夠準確監測沈積速率和剖面。因此，用戶可以精確監控薄膜結構和要求，而無需手動調整晶片和濺射源之間的距離。濺射源可以傾斜，以提供在基板表面的最佳入射角。這樣可以確保高質量的薄膜具有均勻的厚度和出色的附著力。ECR源提供了先進的等離子體控制能力,具有出色的蝕刻選擇性、均勻性和各向異性特征.它提供了廣泛的蝕刻化學方法，包括反應性離子和非反應性等離子體。此外，它還支持高速率離子濺射蝕刻，並提供高腔室均勻性。該工具配備了一臺高性能的基於PC的計算機，具有圖形用戶界面，可以讓用戶控制流程和監控參數。它允許存儲重復性能的配方,並提供高度的過程控制和完全集成的診斷。總體而言，4400濺射資產是一種先進的濺射沈積工具，為半導體器件制造提供下一代薄膜沈積和蝕刻工藝。它提供卓越的性能、準確性和可靠性,並允許用戶獲得更好的膠片質量,並具有更大的工藝靈活性和控制能力。h