二手 PERKIN ELMER 4400 #293754989 待售

製造商
PERKIN ELMER
模型
4400
ID: 293754989
Sputtering system (4) Targets Etcher and bias deposition Cryo pump Chamber with load lock turbo Auto gas control Digital target and substrate bias display RF Generator: 2 kW Manual.
PERKIN ELMER 4400濺射設備是分析實驗室中使用的功能強大且用途廣泛的工具。它能夠通過濺射或反應性濺射的過程將材料薄膜沈積到基板上,從而為進一步的分析技術做好準備。4400是模塊化系統,提供靈活性和可擴展性。它包括陰極、基板支架和真空室。像PERKIN ELMER 4400這樣的濺射系統通過電離目標材料並將原子濺射到基板上,在真空室中的基板表面上重構材料。這一過程的特點是目標材料在濺射過程中汽化,然後以薄膜的形式冷凝到基板表面。來自PERKIN ELMER的4400個濺射裝置在真空室中可容納多達四個高性能陰極和四個crucible。具體應用表征了使用陰極的類型,以及源和射頻功率要求,以及極限腔室壓力和泵送速度。PERKIN ELMER 4400還配備了自動溫度控制機,提供精確的溫度調節和測量,以確保薄膜沈積的均勻性。這對於控制薄膜的質量和性能至關重要。溫度控制工具可以精確地測量和監測從-50°C到+500°C的過程。4400還配備了一條集成的控制線,能夠設置、控制和監測各種目標源和程序,其參數範圍廣泛,如沈積速率、負載和卸載能力以及基板加熱選項。這保證了薄膜沈積工藝的高效完成。PERKIN ELMER 4400濺射資產具有優異的薄膜沈積性能,旨在提供最佳性能.它是材料、物理和醫學研究的理想模型,為研究人員提供完成復雜濺射過程所需的靈活性和多功能性。自動化控制設備允許快速、精確的薄膜沈積,同時允許用戶最大限度地提高吞吐量,減少工藝時間。
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