二手 PERKIN ELMER 4400 #42927 待售
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單擊可縮放
ID: 42927
Sputtering systems
With sputter etch capability
8" Round targets
Single gas
Includes:
Delta backing plate
Insulator
Dark space shield & magnet
(2) DC Magnetron assemblies
(2) DC Magnetrons
RF Diode assembly
Etcher
RF Generator, 1 kW
AE MDX-5, 5 kW DC P/S
MKS MFC: Gas control by controller
CT-8 Cyro pump with SC controller
Gas system:
MKS MFC With MKS 250 controller
SST Gas line with VCR connections
BARATRON With MKS-270 controller
G.P. 303 Dual ion guage controller
HENRY RF Generator 1 kW
AE MDX-5 5000w DC Power supply
Process chamber
CT-8 Cryo & SC Compressor.
PERKIN ELMER 4400是專為精密樣品制備而設計的高通量濺射設備。適用於生產優質薄膜，特別是先進的工業應用，如金屬、金屬合金和氧化物的沈積，以及各種基材上的半導體。這個濺射系統配備了強大的18 kW電源，能夠將高達2.5nm/min的材料沈積到基板表面上。目標持有者的設計可以方便地容納多達5個不同的目標。此外，先進的快門機構確保在整個樣品區域內均勻沈積，同時提供自動目標交換和最小程度的空氣或大氣暴露。濺射過程發生在一個封閉的磁屏蔽室內，防止來自目標表面的雜散電子。這反過來又導致了沈積的均勻性和優秀的薄膜質量。一個自動化的、可編程的、批量控制單元和實時的表面X射線光譜表面控制，可以方便地操作和控制濺射過程，具有沈積時間、電流、溫度和壓力等性能參數可監測和調節。該機非常適合於金屬、金屬合金和氧化物的沈積，如氧化鋁、金、氧化鈦、氧化散銨等。它配有各種沈積配件，包括一個有角度的基板卡盤和石英曲折單元，使薄膜能夠沈積在難以觸及的基板上，具有銳角控制。此外，先進的濺射頭允許高通量生產尺寸和形狀可變的晶片或面板。4400提供卓越的性能和許多先進的功能,使其用戶能夠在最短的時間內以極好的均勻性生產極薄的薄膜。它是商業和工業用途的理想濺射工具。
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