二手 PERKIN ELMER 4400 #9026902 待售

PERKIN ELMER 4400是一種強大的濺射設備，廣泛應用於工業實驗室和生產設施。它是為薄膜層沈積在半導體晶圓等大基板上而設計的。該系統利用濺射室、電子束槍等幾個真空系統組件，在幾納米範圍內形成均勻的薄膜層厚度。該單元的腔室由不銹鋼制成的帶有Glomex浮動光學元件的鐘形罐組成。這些浮動光學器件提供了亞微米粒子的有效捕獲和磁性屏蔽，以確保真空條件的均勻性和減少雜質汙染。濺射室內充填有高純度散熱源或其他氣體，為目標沈積提供低壓氣氛。濺射過程的核心是產生高能電子通量的電子束槍，用於轟擊濺射目標和從目標中提取薄膜層材料。電子槍使用電子束控制器和預聚焦線圈來維持聚焦束。該槍是可調的，以適應不同的基材尺寸。來源靶標通常在過程中由純金屬或合金如鈦、鉻、鈷、鎳等制成。沈積速率通常為1-2 nm/s，可以根據目標的大小和形狀以及沈積過程的速度進行調整。目標轉速也可以調整，以優化膜沈積速率。機器也有一個整體的溫度控制，幫助維持底物溫度在一個理想的水平。該工具還包括一個帶有可調諧激光器和能量分析儀的現場診斷資產。這有助於監測薄膜沈積過程的進展，確保所需的薄膜層均勻沈積在基板上。該模型還提供了階躍覆蓋和方向性控制等功能，以確保薄膜層的均勻性和完整性。綜上所述，4400是一種功能強大、用途廣泛的濺射設備，設計用於各種應用的薄膜層沈積。其設計保證了沈積膜層的均勻分布，使系統成為各種復雜沈積過程的理想選擇。