二手 PERKIN ELMER 4400 #9077091 待售

PERKIN ELMER 4400
製造商
PERKIN ELMER
模型
4400
ID: 9077091
晶圓大小: 6"
優質的: 2004
Sputtering system, 6" Sput down (3) Targets, round 8" RF/DC or Delta CTI Cryo pump and compressor Upgraded RF and DC power supplies Leybold D-30 MP Computer controller AE RFX-3000 and Pinnacle DC P/S turbo load lock Ferrofluidic table and elevator assy PC ripe control 2004 vintage.
PERKIN ELMER 4400是一種用於薄膜沈積的濺射設備,主要用於表面分析、研究和工業應用。這種濺射系統可以沈積金屬、合金、半導體和絕緣體的均勻薄膜,也能提供對沈積速率的高度控制。它的工作原理是轟擊一種目標材料,使用的離子要麼是氙氣,要麼是適當的氣體混合物,而底物則保持在超高真空室中。對目標材料的「濺射」或轟擊導致粒子從目標材料中噴射出來,然後穿過腔室進入基質。這些粒子含有來自目標材料的原子,這些原子最終在基板上形成薄膜。4400濺射裝置是一種節能模式,即使在低功率設置下也能產生高沈積速率。它采用了一種集成的減強劑,它只允許使用該工藝所需的氣體,並有助於降低總體成本。它還使用渦輪分子泵改進真空結果。這種泵的抽水速度高達10,000升/秒,可以根據項目的需要進行定制。該機還提供了廣泛的濺射源,提供各類材料的最高質量濺射。它提供獨立控制溫度和電流以及可調頻率級別等功能。它還包含了一個機器人裝載機/卸載機工具,與多達8個晶片或基板兼容,具有高達120毫米/秒的峰峰運輸速度。整個資產也是高度可調整和可定制的。腔室可旋轉360度上下移動,提供沈積物料的最佳視野,並監控過程。該模型還提供了可靠的監測和警報系統,可以快速幹預可能的故障或問題。PERKIN ELMER 4400濺射設備快速、高效、可靠,是需要沈積薄膜的項目的絕佳選擇。有了正確的設置,系統可以通過使用高質量的濺射源和機器人裝載機/卸載機功能,生產出均勻一致的薄膜。此外,該單元還具有可調參數、密切監控和報警系統,在精確和準確方面提供了安心。
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