二手 PERKIN ELMER 4400 #9224800 待售

PERKIN ELMER 4400是一種濺射設備，廣泛應用於半導體工業中，用於導電材料薄膜的沈積。它由真空室、射頻高頻發生器、濺射陰極和目標組成。腔室內充滿惰性氣體，典型的是氙氣，允許真空水平高達10-6毫巴。為了進行濺射，射頻發生器將交流輸入電流轉換為應用於濺射陰極的高頻射頻場。電子向目標基板加速，撞擊時會造成目標材料的侵蝕。這提供了一個清潔和均勻的沈積材料在基板上。4400濺射系統可單層或多層沈積，沈積速率從0.1nm至12,000nm/min，具體取決於工藝參數。它可以沈積氧化物、氮化物、碳化物和金屬等材料，並允許調整濺射速率和離子組成，以控制膜的厚度、均勻性和組成。可達到5-500nm的最小薄膜厚度範圍。帶有4英寸圓形目標的真空室通常配有PERKIN ELMER 4400濺射單元，允許使用4英寸晶片。4400濺射機具有多種特點，使其成為薄膜沈積的便捷選擇。它配備了幾個安全功能，如氣流監控器、壓力指示器和溫度指示器。該工具還配備了先進的電源，使用戶能夠精確控制電源，從而能夠準確調整沈積速率。此外,圖形用戶界面（GUI）允許用戶快速輕松地監視和控制諸如腔室壓力、濺射速率和目標電壓等過程參數。PERKIN ELMER 4400濺射資產是半導體行業中沈積薄膜的可靠高效選擇。它易於操作和維護,為用戶提供了廣泛的優勢,使其成為許多濺射應用程序的理想選擇。