二手 PERKIN ELMER 4400 #9283424 待售
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ID: 9283424
Sputtering system
PLC Upgrade
(3) RF Diode target assemblies
Etch
Table motor: Encoder for accurate and repeatable positioning
Power supplies
Cryopump
RF Power supply: 1200 W
Chambers:
Upgraded chamber and frames
No alignment
Table:
Upgraded motors
No realign wafer transfer
Ferrofluidic table assembly
Target assembly:
Magnet for higher utilization of targets cathode, 8"
INSTRUTECH Direct feed to PLC
Air manifold: Modular connections
Touchscreen:
Display
Interface: OPTO 22
INTEL Computer.
PERKIN ELMER 4400是一種用於薄膜沈積的濺射設備。它是一個多用途濺射站，可用於沈積多種材料，如金屬、合金、陶瓷和聚合物。它非常適合在一系列基板上制造高質量的光學、電氣和半導體塗層。該系統具有兩個獨立的高真空室，允許在兩個不同的基板上同時沈積。該單元能夠處理直徑不超過8英寸的基板,並且可以制造厚度從0.5nm到2µm不等的薄膜。最優真空水平可以快速、方便地達到，旋轉的圓形陰極確保在大面積基板上均勻沈積。4400允許使用直流磁控管濺射系統創建極其精確和均勻的薄膜。這兩個獨立的電源能夠產生高達2000瓦的總功率，能夠準確控制沈積速率。使用可調二次電子電流（SEC）可以實現高水平的過程控制，從而能夠微調濺射過程。內置顯示反饋機對總離子電流、SEC電流、晶圓檢測器、目標持有者溫度、基板溫度等重要參數提供即時測量反饋。集成控制器還提供了對偏置電壓、快門和關閉、氣體入口等的精確控制。總之，PERKIN ELMER 4400是一種先進的多用途濺射工具，用於為各種應用創造高質量的薄膜。其兩個獨立供電的腔室，內置的顯示反饋，可調的SEC電流和其他特點，允許精確的過程控制和均勻沈積材料在大面積基板上。
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