二手 PERKIN ELMER 4450 #9114028 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9114028
Sputtering system
Au, Ni/V process
Omron PLC Control
(2) Gas
(2) Delta target
(2) AE MDX-5 PS
CT-8 Cryo pump
Pallet, 6"
No etch, LL heat
Currently installed
2000-2005 vintage.
PERKIN ELMER 4450濺射設備是一種多功能、高性能的真空沈積系統,非常適合廣泛的薄膜應用,特別是金屬、陶瓷、半導體和氧化物層。4450單元具有可重復晶圓均勻性的靜電卡盤、用於基板保護的自動快門和專有的多磁控管堆棧布置。這些特性提供了對集成電路應用必不可少的薄膜材料的均勻沈積。PERKIN ELMER 4450使用直流電(DC)電源,具有高達500瓦的可調濺射功率,最多可使用四個獨立的源同時沈積。這使操作員可以在一個腔室中沈積多層薄膜,從而提高工藝吞吐量。濺射源可以獨立操作,以確保對材料組成和沈積速率的精確控制,在基板上具有很高的均勻性。4450機器提供卓越的濺射過程控制,並能夠使用各種濺射目標、金屬和氧化物。先進的磁控管設計允許對大型基板進行出色的光束輪廓控制;導致整個基板的均勻性。該工具通過集成的溫度和傳感器反饋,提供精確的過程控制,確保正確的目標到基板間距以及一致的每脈沖濺射功率水平和統一的目標利用率。直觀的基於PC的圖形用戶界面通過一鍵啟動/停止排序和實時顯示目標電流、基板溫度、濺射速率和薄膜厚度,確保了易用性。自動化的基板負載和卸載允許高效、方便的樣品處理和更快的處理時間。總體而言,PERKIN ELMER 4450濺射資產是尋求薄膜沈積過程自動化、高性能模型的研究人員和企業的絕佳選擇。它具有多種多樣的特點和靈活的工藝控制,可以適應從集成電路開發到金屬塗層和保護層等多種應用。該設備的用戶友好界面和可靠的性能使其成為任何實驗室的絕佳補充。
還沒有評論