二手 PERKIN ELMER 4450 #9173056 待售
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ID: 9173056
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6"
Load lock system
(4) 8” Target head assemblies, bonded
MKS Gas control with MKS MFC and CMT
Pallet
(7) Positions
GP 303 Ion gauge controller
With dual convectron & IG tubes
VAT throttling gate valve
Vexta precision table motor and controller
AE Pinnacle 6 kw RF power supply
AE MDX-10 DC power supply, 10 kW
ENI RF Generator with matching unit for etch
RGA (Residual Gas Analyzer)
21 CFM Mechanical pump
CT-8 Cryo and SC compressor.
PERKIN ELMER 4450是一種高品質的濺射設備，適用於將各種材料的厚膜沈積在多種基材上。該系統設計用於在任何給定的基板上提供超光滑和均勻的材料塗層,並提供多種濺射材料選擇。4450旨在通過方便地訪問濺射目標、高性能冷卻介質以及精確控制壓力、功率和過程時間,最大限度地提高生產率和最大程度地減少停機時間。該單元設有一個雙目標、非疏散室，為用戶提供了復雜濺射過程的高度靈活性。其真空範圍為10-6毫巴，最大濺射速度為500Å/秒，底壓為6 × 10-8毫巴。濺射目標安裝在電子槍中，易於拆卸和更換，以便快速接觸不同的濺射材料。該機配備了高精度的運動級控制器，與雙目標裝置配合使用時，可以使樣品厚度在大面積上均勻。PERKIN ELMER 4450在其設計中融入了高級控制器邏輯，對濺射過程提供了高度的靈活性和控制。它包括一個斜坡向上/斜坡向下的特征，當在較大的基板上濺射較厚的薄膜時特別有用。用戶可以通過易於使用的圖形用戶界面對所需的流程參數進行編程,包括電源、壓力和持續時間。這樣可以對工藝進行非常精確的控制,從而確保精確的塗層效果。該工具配有完全集成的冷卻電介質，用於在濺射操作期間維持目標和源溫度。該介質設計用於在濺射過程中保持低溫，這對於盡量減少目標材料的蒸發和等離子體的降解至關重要。它還有助於保持均勻的濺射過程和均勻的基板覆蓋。4450是MEMS、半導體和光伏器件材料沈積等廣泛應用的絕佳選擇。憑借其先進的控制邏輯和集成的冷卻介質,資產確保了高度均勻、厚實的薄膜,而用戶只需付出最小的努力。
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