二手 PERKIN ELMER 4450 #9226951 待售
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ID: 9226951
Sputtering system
DC Gun
(2) RF Guns, 8" (Round)
PERKIN ELMER RF Matching network included
Turbo pumps load lock and process chamber
Substrate pallet: RF Bias
Mechanical pump
(2) Turbo pumps
Base pressure:
Normal: >5 e-7 Torr
Substrate size: 2" to 6"
Henry RF power supply
ENI RF Power supply.
PERKIN ELMER 4450濺射設備設計用於將高純度金屬或絕緣體靶標薄膜沈積到多種基板上,是一種廣為公認的濺射系統。它是生產高品質薄膜材料的高能力工具,適用於一系列電子、汽車和其他工業應用。該裝置采用易於使用的觸摸屏計算機界面,具有堅固的腔室結構、雙源離子泵和高精度、低漂移渦輪分子光束線,具有極致選擇性。4450濺射機利用雙離子源泵來提供材料沈積所需的高真空環境。這是通過利用角度切割,旋風,離子源腔室來創建所需的薄膜層的基板。腔室內襯鈦石英窗,可同時沈積多達兩個靶子,也可保護腔室不受極性溶劑的影響。內置溫度控制器確保濺射室壁保持在穩定的溫度,這對於滿足應用程序的嚴格要求至關重要。PERKIN ELMER 4450濺射工具的光束線在保持高度控制的前提下,具有穩定的樣品沈積能力。這是通過一個集成的控制資產來實現的,該資產為梁輪廓提供了精確的設置和控制,以實現最佳的精度和均勻性。此外,該模型還具有先進的陣列功能,例如能夠獲得均勻的邊到邊濺射覆蓋、薄薄的均勻層以及專用產品的大面積陣列。為了保證可靠性,該設備采用了雙源離子源組件,能夠快速加熱和冷卻系統,以便快速地為各種操作準備腔室。這樣可以確保所有濺射操作都以一致的壓力、溫度和真空水平進行。此外,它還配有堅固的鈦石英窗,可承受沈積室中使用的苛刻清潔劑。最後,內置安全功能確保該裝置符合國際清潔室作業條例和要求。4450濺射機是一種可靠、能幹的儀器,可用於形成符合各種電子和汽車應用要求的高質量薄膜材料。該工具配有觸摸屏計算機界面、雙源離子泵和高級制圖功能,可對沈積過程進行量身定制的控制。堅固的腔室結構,加上集成的控制資產和鈦石英窗,確保了薄膜層的均勻性和精確的圖案,使PERKIN ELMER 4450成為可靠且功能強大的濺射模型。
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