二手 PERKIN ELMER 4450 #9262871 待售

製造商
PERKIN ELMER
模型
4450
ID: 9262871
PVD Sputtering system DELTA Target Cryo compressor Vacuum pump Vacuum gauge Gallium Arsenide (GaAs) Glass wafers / Solar cell ADVANCED ENERGY RFX 6000 RF Generator ADVANCED ENERGY DC Power supply Temperature controller Silicon wafer, 4"-8" Panel missing.
PERKIN ELMER 4450是一款高性能的多晶目標濺射設備,專為廣泛的濺射和沈積應用而設計。它具有先進的計算機控制濺射過程環境,為高級過程控制和濺射速率監測提供了靈活性。該系統旨在提供廣泛的濺射策略,允許沈積高質量、均勻的薄膜,如金屬氧化物、SiO2和高導電性薄膜。該裝置的工作壓力範圍很廣,從低真空到中等真空,允許沈積大尺寸和圖樣樣品。它配有一個大的目標腔,帶有一個可旋轉的陰極組件,允許超過4500個單獨的目標的濺射。該機配備了濺射壓力、沈積溫度、目標排列和目標開口等多種計算機控制參數。它還允許精確控制膜在整個基板表面積上的濺射速率和均勻性。該工具也適用於濺射蝕刻和高均勻率。它具有三軸單級磁場發生器,最大150 mT,保證了均勻的濺射輪廓和均勻的沈積速率。通過PLC微處理器操作的濺射速率控制器,確保了沈積速率的精確控制,減少了工藝時間。該資產還具有許多用戶友好的功能,包括基於Web的GUI,它允許對濺射過程進行遠程控制和監視。該型號配備了光學發射光譜儀、微天平、磁控管濺射源、氙離子源、熱電偶、電子束蒸發器和真空泵。該設備包括一個多用途的腔室和先進的真空系統,可提供清潔、低汙染的環境。通過使用節能液體冷卻系統對裝置進行冷卻,該系統將濺射室保持在所需過程的一致溫度。綜上所述,4450是為各種濺射和沈積應用而設計的現代、高性能濺射機。該工具便於過程控制、卓越的速率控制和均勻的薄膜。該資產還包括可靠的真空模型和一些用戶友好的特點,使其適合各種不同的過程。
還沒有評論