二手 PERKIN ELMER ICP 2000DV #9231262 待售

PERKIN ELMER ICP 2000DV是一種專業的濺射設備，設計用於薄膜的物理氣相沈積，用於研究和工業應用。這種先進的濺射系統具有四軸均勻沈積操作單元，並配有一個高真空室，帶有大門，便於裝卸。這臺機器的主要部件包括一個磁控管濺射陰極、一個基板支架、一個用於操縱基板的控制器、一個射頻電源和一個高真空泵浦工具。該資產能夠生產厚度約為0.2-100 nm的極為均勻的薄膜。磁控管濺射陰極是利用氙氣或其他惰性氣體產生等離子體轟擊帶有正離子或負離子的目標材料。然後將目標材料高速濺射到基板上。基板架負責操縱基板，以確保沈積均勻，能夠旋轉、傾斜、旋轉基板。控制器允許用戶編程沈積速率、均勻性和處理功率等參數。射頻電源負責提供高濺射速率所需的高壓和低頻信號。它能夠提供具有穩定和可重復過程參數的精確電源控制。采用高真空泵浦模型維持高真空水平，以實現高效沈積。它由多個真空級組成，能夠達到<2 x 10-6 Torr的極限真空。設備還配備了軟件和硬件，使用戶能夠輕松監控整個過程。該軟件具有可視化和數據記錄功能以及易於使用的圖形界面。硬件包括一個X、Y、Z和theta電動機控件，用於精確操縱沈積室中的基板，以及一個記錄系統總運行時間的累積計時器。PERKIN ELMER ICP 2000 DV是需要極高精度沈積薄膜的研究和工業應用的理想選擇。這種先進的濺射裝置能夠生產出各種材料應用的優質薄膜，其用戶友好的軟件和硬件功能使用戶易於監控和控制工藝參數。