二手 PERKIN ELMER ICP-OES 7300 #293671065 待售

PERKIN ELMER ICP-OES 7300是一種先進的濺射沈積設備，設計用於通過濺射的薄膜沈積。該系統提供無與倫比的控制,創造薄膜塗層的一致性和精確度.濺射過程在壓力範圍為5 × 10-4至5 × 10-7 Torr的真空室中進行，實現精確一致的薄膜沈積。直觀單元使用戶能夠控制腔室中的所有條件,以實現最佳膜生長,並提供高達8nm/s的快速沈積速率。一個先進的機器控制器和兩個先進的傳感器確保沈積過程始終按計劃進行。ICP-OES 7300具有廣泛的濺射目標,使用戶能夠將濺射應用範圍擴展到傳統材料之外。目標材料選擇廣泛，該工具適用於塗覆多種材料，包括金屬、氧化物、氮化物和碳氮化物，使資產適應各種薄膜塗層需求。該模型是為工藝優化而設計的，具有一系列工藝參數，允許用戶根據特定需要量身定制其薄膜沈積工藝。這些參數包括濺射氣體類型、磁場的電壓和功率、真空的壓力範圍和沈積速率。連接到設備的控制器應用程序提供了對過程的更多控制，使用戶在微調參數方面具有更大的靈活性。為了保持始終如一的優質沈積，系統還配備了駐井時間控制功能和均勻的氣體駐井分配模塊等先進功能，有助於確保真空內氣體均勻分配，避免塗層缺陷。該裝置的另一個優點是其安全特性，其中包括先進的AR大氣測量儀、雙氣體分離室和遠程操作機器（ROS），可最大限度地減少危險貨物的接觸。為了最大限度地提高沈積效率，PERKIN ELMER ICP-OES 7300配備了雙磁控管源，能夠以盡可能高的沈積速率進行均勻沈積。該工具還具有靈活性,為直徑不超過150 mm的基板提供了一系列可選的背面裝載夾具。最後，ICP-OES 7300通過具有無與倫比控制的濺射沈積過程提供了先進的薄膜沈積能力。該設備具有通用的濺射目標、工藝控制、先進的安全特性和快速的沈積速率，是滿足薄膜塗層需求的絕佳解決方案。