二手 PERKIN ELMER ICP-OES 8000 #9205302 待售

PERKIN ELMER ICP-OES 8000濺射設備是一種非常先進的系統，能夠以納米分辨率測量元件的數量和組成。該裝置利用濺射的物理化學過程將薄膜沈積到基板上。這一過程包括用高能粒子或原子轟擊材料表面，以便從薄薄的材料層中濺出，然後對其元素組成進行分析。ICP-OES 8000通常用於將薄膜沈積在金屬、玻璃、聚合物、陶瓷和半導體材料等基材上。濺射機精度高，橫向分辨率在10nm至100nm之間。該工具可以沈積不同厚度的薄膜，從500 nm到5000 nm不等，這取決於基材材料和所使用的高能粒子的能量。PERKIN ELMER ICP-OES 8000資產由計算機控制模型供電。交互式多用途控制面板根據所需的沈積提供可調整的步數。該濺射設備還配備了獨特的多通道光發射光譜檢測器，能夠以納米級分辨率精確測量元件的數量和組成。濺射系統還設計用於減少汙染。其低壓操作確保該過程在真空中進行，並保護材料不受大氣中存在的微生物和其他顆粒的汙染。該單元還設計為易於操作和維護。其用戶友好的軟件使操作員能夠快速準確地調整參數，以確保獲得最佳的沈積速率和材料組成。總體而言，ICP-OES 8000濺射機是一種具有納米級分辨率和低汙染的先進工具。資產的嚴格測量，加上用戶友好的設計，使其成為各種材料基板上薄膜沈積的理想選擇。