二手 PERKIN ELMER / RANDEX 3140 #9247279 待售

ID: 9247279
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6" Sputter coater Sputtering head Vacuum chamber Rolling vacuum enclosure / Base Does not include: Turbo pump Roughing pump Cathode sputtering interfaces with vacuum station 14" RF Sputter deposition Bias sputter Sputter etcher Deposition uniformity: ±5% Matching network combined with 1/2 kW RF power supply PLASMATHERM HFS 500E RF Generator Power supply.
PERKIN ELMER/RANDEX 3140濺射設備是一種高質量的濺射系統,旨在將所需材料的薄膜沈積到基板上。它是一種雙磁控管裝置,可促進對濺射沈積的更多控制,非常適合需要精確的應用,如塗覆光學元件、芯片上實驗室設備、數據存儲、顯示器和材料分析。RANDEX 3140型號具有13英寸直徑的真空室,適合各種尺寸可達12英寸的基板。PERKIN ELMER 3140還提供了廣泛的操作壓力和沈積速率。它能夠在高沈積速率下生產具有良好附著力、均勻性和均勻性的高質量薄膜,非常適合采用等離子體增強化學氣相沈積、反應性濺射沈積或物理氣相沈積技術進行薄膜沈積。該機采用高精度控制器供電,對直流和射頻功率、射頻頻率和濺射壓力進行精確優化,以實現均勻的薄膜沈積。3140還具有種類繁多的操作參數,使用戶可以定制沈積過程,優化成品膜的目標特性。此外,PERKIN ELMER/RANDEX 3140還包括一個自動晶圓處理工具,在紡絲過程中方便準確。它包括可調節的安全特性,如傳感器和關閉系統,如果腔室中有晶片,將停止濺射。RANDEX 3140還配有一個電紅外加熱元件,用於排氣基板和啟動濺射過程。PERKIN ELMER 3140濺射資產是將所需材料的薄膜沈積到基板上的絕佳工具。它是一個高質量、集成的濺射模型,提供精確的可調參數和特征,保證了薄膜沈積應用的成功。易於使用的控制器、直觀的安全特性和自動晶片處理設備對沈積參數提供了優越的控制,讓用戶創造出附著力、均勻性、均勻性都很好的優質薄膜。
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