二手 PLASMA SCIENCES ARC12M #293646048 待售

ID: 293646048
Sputtering system Target diameter, 8".
PLASMA SCIENCES ARC12M是一種先進的磁控管濺射設備,用於薄膜沈積、塗層和絕緣等工業應用。該系統能夠為各種材料沈積廣度和復雜性的塗層。適用於多種基板上的單層和多層應用。該裝置采用獨特的專利先進等離子體電弧源技術,能夠產生比傳統磁控管濺射系統更高的功率密度和更高的沈積速率。這使機器能夠沈積金屬、陶瓷、介電和光催化層。通過在一系列過程參數中可靠地運行,進一步增強了該工具。ARC12M設計具有多種安全功能,使其對操作員和其他人員的風險降至最低。資產的離子源是模塊化的,這意味著操作員可以快速輕松地交換目標板,並將新材料納入濺射過程。這使得生產具有最大的靈活性。PLASMA SCIENCES ARC12M能夠在各種功率級別上工作,並且包括用於目標材料操作的可選低功率模式。此模式需要顯著降低目標功率,允許用戶執行精細的加工過程,而不會破壞過程的穩定性,並將目標材料暴露在不希望的溫度下。該模型被設計用於處理多種氣體,包括​​氙氣、氧氣和氮氣。這允許用戶通過調節氣體壓力來沈積化學計量和汙染水平不同的薄膜。此外,該設備提供均勻的濺射速率,具有寬廣的離子角分布,使所有基板表面的薄膜均勻性更高。ARC12M還具有集成的遙控/監控接口和可變工藝壓力室。這使操作員能夠根據所需塗層的類型快速輕松地調整腔室內部的壓力。這有助於確保基板和薄膜保持對外部汙染物的適當保護。總體而言,PLASMA SCIENCES ARC12M是一個先進的、功能豐富的濺射系統,為各種工業應用提供可靠的性能。它的低功率模式和模塊化離子源也使其成為精細應用的理想選擇,而其集成的遠程接口和壓力室確保了沈積在所有基板表面的薄膜的優越均勻性。
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