二手 PLASMA SCIENCES HRC 200 #10010 待售

PLASMA SCIENCES HRC 200是一種多用途、緊湊的高速率濺射系統，能夠沈積各種不同用途的材料。它能夠實現磁盤驅動器磁頭層、基板、MOS/MEMS和高端消費電子等許多應用所需的具有長期重復性和均勻性的高速率沈積。HRC 200基於徑向磁控管濺射技術，將非磁性材料沈積到包括鋁、不銹鋼、石英、玻璃和矽在內的多種基板上。這項技術的優點在於，它既能對大大小小的區域進行塗層，又能沈積非常薄、高度均勻的層。該HR-200能夠沈積一系列金屬、陶瓷等材料，如氧化鋁、鉻、鈦、氮化矽、氧化鐵等多種化合物。它還利用了電離物理氣相沈積（IPVD）和高功率脈沖磁控管濺射（HIPIMS）等一系列先進技術。其先進的等離子體源能夠沈積極均勻的層，在大基板上具有特別高的均勻性。該HR-200還利用先進的控制面板、溫度和壓力監測系統來確保均勻和可重復的沈積。該系統是為低成本塗層設計的大型基板具有卓越的均勻性。它占地面積小，結構輕巧，運輸方便，適合實驗室或工業使用。SLASMA SCIENCES HRC 200易於使用和維護，對腔室壓力和沈積速率進行自動監測。它還包括一個集成的基板到基板的旋轉系統，以提高在大型基板上的均勻性。此外，幾乎所有業務和條件都可以通過互聯網連接進行遠程監測和管理。總體而言，HRC 200是金屬和金屬氧化物材料高速率濺射的理想解決方案，具有較高的均勻性和可重復性。它為各種不同的應用提供了強大、緊湊和靈活的塗層解決方案。利用其先進技術和遠程監測，PLASMA SCIENCES HRC 200提供了可靠和可重復的沈積過程，具有卓越的可重復性和統一性。