二手 RPT RTA-381A #9397130 待售

RPT RTA-381A濺射設備是一種高精度、超低壓濺射系統，設計用於將薄膜塗層均勻地沈積在半導體基板上。該單元由射頻電源、腔室、濺射目標和氣體輸送組件組成，設計用於一系列科學和工業應用。射頻電源是一種高度可編程的步進調節外射頻發生器，具有數字控制，用於精確的脈寬調制。它能夠在13.56 MHz時產生高達400瓦的射頻功率,具體取決於真空配置。這是能夠沈積薄膜精確厚度，在+/−2％。濺射室由不銹鋼構成，設計具有超高真空（UHV）能力，在濺射時保持全真空水平。該系統經過優化設計，可確保薄膜均勻沈積，具有高效的真空泵系統，可防止除氣。濺射目標由純金屬或合金組成，以確保精確的沈積材料。廣泛的濺射目標可用於滿足特定薄膜的要求，包括用於隔離層轉移的濺射蝕刻目標。機器的氣體輸送部件包括高性能氣動真空閥、氣體混合器和數字質量流控制器（MFC）。MFC信息豐富、準確，旨在監測精確的氣流並減少除氣的可能性。RTA-381A為科學和工業應用提供精確、可靠和高度可重復的薄膜沈積。它能夠在嚴格的公差範圍內制造各種類型的、厚度均勻的高離散層,並具有提供穩定性和可重復性的優化過程控制工具。該資產非常適合生產金屬薄膜、合金和一系列半導體器件的介電材料。