二手 RSI / VANGUARD Sencera #9300991 待售
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ID: 9300991
In-line sputtering system
(6) Target large panels
Vacuum pump
Turbo pump
RF and DC Power supply
Qty / Make / Model / Description / Part Number
(4) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle 3152442-102D / Generators / -
(2) / MKS / optima RPG-50Z / DC power supply / RPDG-50Z-10237
(1) / MKS / optima DCG-200Z / DC power supply / RPDG200Z-08055
(1) / ADVANCED ENERGY / MDX / 2011-000-AA / Magnetron Drive / -
(1) / ADIXEN / AD30KL / Dry pump / -
(1) / BOC EDWARDS / STP-iXA2206C / Turbomolecular turbo pumps / - / YT81-0Z-010 controller
(2) / BOC EDWARDS / STP-iXA2205CP / Turbomolecular turbo pumps / - / iPS-1200 YT63-W1-Z10 & Z00 controller
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS2/0001 A-1799517 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS1/0002 A-973785 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0005 A-977764 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0006 A-97776 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / ALLEN BRADLEY / 1734 / Processors and I/O / -
(1) BROOKS AUTOMATION / MFC / Delta Series / -.
RSI/VANGUARD Sencera是為薄膜沈積和塗層應用而設計的濺射設備。它利用兩個低溫冷卻的陰極在高真空環境中從陰極目標蒸發材料，然後沈積在基板上。蒸發的材料通常是鈦、鋁、鉻或鐵,RSI Sencera系統的沈積速率高達每秒2埃。VANGUARD Sencera具有控制材料電離方向和能量的雙極濺射模式。這種模式有助於均勻沈積和塗層，低濺射，低寄生再沈積。該單元還包含用於控制帶電粒子電離的內部磁體和一個頻率掃描發生器，以確保均勻覆蓋。Sencera機器包括一個緊湊的沈積室和一個工業級真空泵，用於創造高真空環境。腔室設有環繞基板的電極，用於瞄準和捕獲蒸發的材料並測量溫度。腔室溫度可監測控制在5至40攝氏度之間。RSI/VANGUARD Sencera具有一個用戶友好的界面,具有多種操作模式,其中包括一種預設模式,該模式允許輕松回憶產生所需結果的實驗。可編程速率進紙器允許更精確地確定諸如沈積速率之類的濺射過程參數。該工具還包括過電壓保護和電源關閉等內置安全功能。總體而言，RSI Sencera資產是薄膜沈積和塗層應用的優越濺射模型。其磁鐵和頻率掃描技術能實現高沈積速率和均勻電離，而其友好的界面和可調節的溫度控制使其易於使用。此外，其內置的安全特性，使其安全可靠的可重復的實驗與可重現的結果。
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