二手 SEMICORE MRC-943 #9275511 待售
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已售出
ID: 9275511
晶圓大小: 6"
Seed layer deposition system, 6"
Process chamber
(3) Targets:
T1: TIW
T2: CR
T3: CU
Process chamber ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr
Loadlock ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr
Process gas: Ar
Process gas flow: 0 ~ 100sccm
Process pressure control range: 0 ~ 20mtorr
RF Power: 0 ~ 1500 W
DC Power: 0 ~ 10 kW
Film uniformity: ≤5%
Spare parts included.
SEMICORE MRC-943濺射設備是市場上最先進的濺射系統之一。它是一個功能強大、用途廣泛且經濟實惠的系統,非常適合各種應用程序。SEMICORE 943利用磁性徑向壓縮技術,以一致、均勻的濺射材料沈積實現高通量率。通過采用獨特的三軸運動控制來精確控制濺射速率和目標材料的角度,該裝置能夠實現非常高的精度和精確的沈積。高級控制器還允許通過互聯網對機器進行遠程控制和監控。MRC-943是為大型生產運行而建造的,有一個大的濺點尺寸,可容納直徑不超過200毫米的基板。與其他濺射系統不同,943利用一個獨特的分流級來排放濺射過程中產生的顆粒,從而允許更高質量的沈積和更長的運行時間。此外,該工具允許快速改變基板,消除與其他濺射系統相關的等待時間。SEMICORE強大的控制器和先進的軟件MRC-943使用戶能夠通過多種方式對資產進行編程以存放濺射材料。使用模型可以很容易地進行圖樣和蝕刻,並且可以根據用戶定義的參數實現濺射過程的自動化。該設備由高效射頻電源供電,包括一系列易於互換、可移動的陶瓷靶標,提供了廣泛的沈積可能性。SEMICORE 943還擁有先進的計算機控制溫度控制和真空系統,允許操作員在沈積過程中精確調節目標和基板的溫度以獲得最佳效果。總體而言,MRC-943濺射系統是一個先進的單元,非常適合各種應用。憑借其強大的控制系統、廣泛的沈積可能性和自動化編程能力,這臺機器是任何研究或生產環境的絕佳選擇。
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