二手 SEMIQS Ti-Cu #9382375 待售

SEMIQS Ti-Cu（鈦銅）是為先進納米級薄膜沈積而設計的濺射設備。該系統旨在沈積先進的金屬、半導體和介電薄膜，具有以前無法達到的精度和工藝控制水平。它能夠濺射沈積鈦、銅、鎢、鉻等材料。Ti-Cu構型基於平面陰極磁控管濺射單元，帶有惰性陰極濺射-陰極點塗層。它包括一個真空室，一個電源和一個屏蔽陰極。這種簡化的設計和集成的結果是一個經濟高效的機器，提供優質的薄膜沈積。該工具針對鈦銅的濺射進行了優化，具有可調能級，利用外部磁場實現。SEMIQS Ti-Cu濺射目標安裝在旋轉的旋轉木馬上，使得每個目標的薄膜沈積容易一致。該資產能夠以高達20 nm/s的速度沈積厚度高達50 nm的薄膜。該模型包括一種先進的控制設備，能夠在沈積薄膜時實現精確的速率控制、均勻性控制和穩定性控制。此外，該系統還包括一個高端熱控制器，以保持真空室內的穩定溫度。Ti-Cu為用戶提供了以可重復速率和均勻性精確沈積鈦和銅的能力。該單元非常適合包括納米級薄膜沈積、電子器件制造、MEMS制造在內的科學研究和工業應用。此外，成本效益高的機器也非常適合開發項目，如電容器和電阻器制造，以及用於學術或工業目的的其他光學材料。最後,SEMIQS Ti-Cu是一種高級濺射工具,旨在提供以前無法獲得的精度和過程控制。它具有精確度和可重復性的薄膜沈積能力，非常適合許多工業和科學研究項目，包括先進的電子器件制造。