二手 SHIBAURA CFS-8EP-55 #293608660 待售

SHIBAURA CFS-8EP-55是為制造薄膜半導體器件而設計的濺射設備。這臺機器是一種功能強大、用途廣泛的工具,可用於各種應用,包括：薄膜光伏、顯示技術、薄膜MEMS設備和薄膜生物傳感器。濺射系統在低壓下運行，需要一個真空室和兩個或多個等離子體濺射源。該腔室由不銹鋼制成，最大壓力為3.2 × 10-1帕。在腔室內部，一對圓形磁鐵（稱為磁控管）環繞目標材料，通過壓縮和聚焦離子來增加等離子體密度。這增加了目標材料向腔室發射的速率，從而提高了薄膜沈積的速率和均勻性。濺射裝置配有兩個濺射源，以提高建造率。該LPH-30P包括兩個模塊化電源、一個可用於控制兩個源的相對相位的相移電路和兩個全向0.8厘米濺射電極。該LPH-30P使用直流電（DC）來實現較高的目標/基板覆蓋率。該LPH-30P適用於氧化物、氮化物和金屬的沈積。機器的另一個濺射源，PES-30P，是一個脈沖遠程等離子體源，功率比LPH-30P高。它在較高的壓力設定下運行，並具有螺旋形電極。這種設計產生了能量更高的等離子體和更大的濺射材料半徑，導致更快的沈積和改善小區域的均勻性。它非常適合沈積合金和其他多組分材料。CFS-8EP-55濺射工具還為用戶提供了先進的過程控制功能。連接到腔室的控制器可實時監視所有參數。控制器配備了基於Windows的圖形用戶界面，提供了一個易於使用的平臺來控制資產的各種功能。此外,該軟件允許自動過程控制,以確保最佳的薄膜沈積結果.總體而言，SHIBAURA CFS-8EP-55是一種強大可靠的濺射模型，旨在滿足當今研發項目的需求。這臺機器使用戶能夠輕松地創建一系列材料的高質量薄膜，使他們在加工敏感基板時具有極致的靈活性和控制力。