二手 SHIBAURA ITO #9378267 待售

SHIBAURA ITO是一種濺射設備-一種先進的技術,用於制造各種材料的薄膜,用於科學和工業用途。由於實驗室能夠生產高質量的材料，它經常被實驗室用於研究和開發活動。系統的核心是直流磁控管濺射源，利用強烈的電場將電流通過真空傳遞到金屬目標。這樣就形成了一個等離子體場，其強度足以縮短氣體分子之間的距離，並進一步形成氣態或金屬膜，隨後沈積在下面的表面。ITO濺射裝置生產的濺射沈積膜有諸多好處，包括提高了理化穩定性、光學透明度、硬度等等。SHIBAURA ITO機利用平面磁控管，磁場由兩個類似的磁體產生，非常適合需要在大面積上均勻沈積的應用。與傳統的圓形磁控管相比，平面設計允許對磁場方向進行更多的控制，甚至對於形狀復雜的表面也可以更均勻地沈積薄膜。該工具在功耗方面也很高效。具有較高的功耗效率,ITO可以使用比其他濺射系統更低的電源進行小規模的操作。此外，該資產的氣體消耗率低，減少了與不斷和過度補充氣體有關的成本。SHIBAURA ITO模型也非常適合因設備占地面積小而需要遵守嚴格環境法規的應用。該系統的設計目的是盡量減少將顆粒排入環境，甚至配備一個強大的過濾裝置，確保排放達到最低水平，符合大多數環境標準。總體而言，ITO濺射機是一種可靠、高效、高效的工具。其直流磁控管濺射源被設計為產生質量優越的薄膜，除了能夠在控制均勻的大面積上產生薄膜，使其成為各種科學、工業和研究項目的理想選擇。其低功耗和滿足嚴格環境法規的能力進一步擴大了這種濺射工具的潛在應用範圍。