二手 SHINCRON BSC-19043LT #293608265 待售
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ID: 293608265
Sputtering systems
Max temperature: 360°C
Operating temperature: 320~340°C
Substrate thickness: 0.4 / 0.55 / 0.7 / 0.85 / 1.1mm
Source:
(2) ITO HX Type
(2) Sio2 B Type
Substrate size:
(64) 300 x 300mm
(48) 300 x 320mm
(48) 300 x 340mm
(48) 300 x 400mm.
SHINCRON BSC-19043LT是一種雙室濺射設備,用於各種工業和科研應用。它由安裝在同一軸上的兩個沈積室組成,一個轉移旋轉臂分隔這些室。真空密封被放置在腔室之間,以允許高真空水平和可重復的工藝條件。該系統在每個腔室中最多可處理六種基材,並且可以量身定制以支撐各種基材尺寸和厚度。同時BSC-19043LT沈積多達四種物質。該單元的一個獨特特點是能夠將材料沈積序列配置為兩個或三個材料的序列,甚至是單個材料的順序層。SHINCRON BSC-19043LT采用專有的電離設計,其沈積膜在基板表面具有較高的均勻性。這種卓越的均勻性歸因於這種濺射機所利用的可調動態副產品抑制。離子化設計和動態副產品抑制也導致了對沈積參數的改進過程控制。為了便於操作和安全,BSC-19043LT配備了安全聯鎖裝置,以保護操作員和工具免受危險操作。位於腔室之間的HEPA過濾器有助於有效地泵送汙染物。此外,該資產還可以通過管子清洗、晶圓烘烤、噴泉維護等多種預防性維護選項輕松維護。SHINCRON BSC-19043LT還對沈積過程提供無與倫比的控制。通過運用先進的控制技術,模型利用壓力和溫度傳感器對氣流、壓力等關鍵工藝參數進行精確調節。這種經過微調的控制在降低工藝運行的同時,提高了產量,提高了膜的均勻性。最後,BSC-19043LT是一個先進的雙室濺射設備,能夠處理各種基材和材料具有優越的均勻性。結合該系統的所有特點和功能,是材料研究和沈積應用的理想選擇。
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