二手 SKY TECH Nexda #293743695 待售
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ID: 293743695
晶圓大小: 8"
PVD Sputtering system, 8"
(4) Process chambers: Ti, AlN, TiW, Turbo
Pulse DC Power supply
(4) Dry pumps
(2) Cryo pumps
Chiller
PC Rack.
SKY TECH Nexda是一種尖端濺射設備,在各種研究和工業應用中為精確高效的薄膜沈積而設計。這個最先進的系統集成了先進的技術,在薄膜塗層工藝中提供卓越的性能、靈活性和可重復性。Nexda單元的核心是它的高真空室,它為將材料濺射到基板上提供了一個受控的環境,具有非凡的均勻性和純度。該腔室配有由不同材料制成的多個靶子,允許廣泛的材料組合和層結構沈積在基板上。SKY TECH Nexda機器的一個關鍵特點是其先進的目標索引工具,它能夠在不打破真空的情況下實現不同目標之間的快速自動切換。此功能不僅提高了薄膜沈積工藝的效率,而且減少了停機時間並提高了整體生產率。該資產配備了一個精密的電源模塊,允許精確控制濺射過程參數,如目標功率、基板偏置和氣體流量。這種控制水平確保了沈積薄膜在厚度、成分、結構等方面滿足特定要求,使得Nexda模型非常適合廣泛的研究和工業應用。除了精確的控制能力外,SKY TECH Nexda設備還具有全面的監控和診斷系統,提供關鍵工藝參數的實時反饋。這使操作員能夠密切監測薄膜沈積過程,並根據需要進行調整,以確保薄膜的一致性和高質量增長。該單元還包含一個多功能的基板支架,可以容納各種尺寸和形狀的基板,允許在樣品制備和薄膜性能優化方面具有靈活性。基板支架的設計是旋轉和傾斜,使薄膜在復雜的基板幾何形狀均勻沈積。為了進一步提高Nexda機器的性能,它配備了一個大容量抽油機,確保迅速和有效地疏散腔室,以達到並保持濺射過程所需的高真空水平。這種抽水設備對於減少汙染和提高沈積薄膜的質量至關重要。SKY TECH Nexda模型由直觀且用戶友好的軟件界面控制,使操作員能夠輕松設置和監視濺射過程。軟件界面提供了一系列預設沈積配方以及根據特定需求創建自定義配方的靈活性。總之,Nexda濺射設備是一種功能強大、用途廣泛的薄膜沈積工具,為廣泛的研究和工業應用提供了先進的特點、精確的控制和靈活性。其卓越的性能、效率和可重復性使其成為要求苛刻的薄膜塗層工藝的首選系統。
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