二手 SPUTTERED FILMS INC / SFI Endeavor #9255519 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9255519
Sputtering system
Substrate heating: 100°C
Capable of 20 wafers
(3) Chambers:
Configured for multiple wafers, 4"
Chamber 1:
AC Sputtering of Si, SiN, SiO2, AlN, Al2O3 films
AlN rate: ~4.5 nm/min
Al2O3: ~6 nm/min
SiO2 rate: ~4.5 nm/min
Chamber 2:
DC Sputtering of Ti, TiN, TiO2, W and W-Oxides
Ti rate: ~200 nm/min
Chamber 3:
DC Sputtering of Al or Au, RF back sputtering with Argon
Al Dep rate ~300-400 nm/min.
Sputtering Films Inc （SFI） SPUTTERED FILMS INC/SFI Endeavor是為快速薄膜沈積而設計的強大而緊湊的濺射系統。SFI Endeavor采用集成的垂直設計,能夠為薄膜沈積提供低成本和高效的選擇。濺射是半導體等工業中使用的一種技術，允許一層薄薄的材料沈積在基板上。SPUTTERED FILMS INC Endeavor結合了最新的濺射技術，提供適合多種應用的高性能和精密沈積。憑借其單一、集成的磁控管源，它能夠濺射各種形狀和大小的各種金屬和其他材料。自動控制器驅動基板的旋轉和移動，從而更好地控制沈積過程。加熱的樣品室允許先進的溫度控制，也允許系統保持一致的過程環境。Endeavor配備了多種配件，以滿足用戶的需求。它與多種不同的基板夾緊技術，以及多個樣品持有者兼容。它還可以接受大量可選的腔室組件，以獲得額外的工藝多功能性，如濺射、源旋轉和可調性，同時支持手動和自動操作。此外，SPUTTERED FILMS INC/SFI Endeavor可以適應幾種工藝氣體，允許各種濺射工藝。SFI Endeavor還支持流程自動化，允許用戶快速編程所需的濺射參數，以減少批次之間的差異。綜上所述，SPUTTERED FILMS INC奮進濺射系統是一種功能強大、用途廣泛的薄膜沈積解決方案。它能夠對各種材料進行高精度濺射，並支持多種工藝氣體，具有更大的靈活性。其自動控制器和加熱的樣品室使沈積過程的設置和監測變得容易。憑借多種定制配置選項,Endeavor可以滿足各種需求,並提供低成本的濺射解決方案。
還沒有評論