二手 SURFACE SCIENCE Workstation #293808640 待售

ID: 293808640
Pulsed Laser Deposition (PLD) system Laser: COHERENT COMPexPro 201F or 205F Wavelength: 248 nm Substrate heater: 1000 °C Substrate rotation: 50 rpm Targets: 4 x 2" Size: 2200 x 850 x 1600 mm³ Water cooling: Included chiller (201F) Laser gases: 20 l Premix 10 l He Built-in gas cabinet Process gases: 2 MFC Channels Automated pressure control Control system: PC Based control Integrated TFT Monitor Power supply: 3×400 VAC/50 Hz or 3×208 VAC/60 Hz.
SURFACE SCIENCE Workstation是一種尖端濺射設備,旨在為廣泛的研究和工業應用提供精確高效的薄膜沈積。這套先進的系統采用了最先進的技術和工程技術,可在緊湊且用戶友好的平臺中提供高性能的濺射功能。工作站的核心是濺射過程,它涉及用高能離子轟擊目標材料,從目標表面噴射原子或分子。這些噴射的顆粒然後沈積在基板上,形成具有厚度、組成和形態等受控特性的薄膜。SURFACE SCIENCE Workstation提供了一種用途廣泛的濺射機構,可以容納各種目標材料,包括金屬、氧化物和半導體,使研究人員和工程師能夠根據特定的應用量身定制薄膜特性。工作站中的濺射過程是由一個復雜的真空單元促進的,該單元在沈積室內保持高真空環境。這種真空環境對於通過盡量減少周圍大氣的汙染和雜質來確保沈積薄膜的純度和質量至關重要。真空機配備了先進的泵送機構,如渦輪泵和低溫泵,以達到並保持最佳濺射性能所需的真空水平。SURFACE SCIENCE Workstation的沈積室設計可容納多種目標材料和基材,允許多種用途的薄膜沈積配置。腔室具有對溫度、壓力、氣流參數的精確控制,確保薄膜生長的一致性和可重現性。此外,該室還配備了現場監測和診斷工具,如石英晶體微天平和光譜橢圓偏振法,以實時反饋沈積過程和薄膜特性。Workstation中的濺射源是一種磁控管濺射工具,提高了濺射過程的效率和均勻性。磁控管濺射源利用磁場限制濺射過程中產生的等離子體,導致更高的濺射速率,提高了整個基板表面的薄膜覆蓋率。SURFACE SCIENCE Workstation提供一系列磁控管配置,包括平面磁控管和圓柱形磁控管,以滿足特定的沈積要求並優化薄膜質量。Workstation的控制資產由高級軟件提供支持,該軟件能夠精確、直觀地操作濺射過程。用戶友好的界面讓研究人員和操作員能夠輕松設置沈積參數,監控過程變量,分析薄膜特性。該軟件還具有數據記錄和存儲功能,能夠為研究和開發目的全面記錄和分析沈積實驗。總之,SURFACE SCIENCE Workstation是一個最先進的濺射模型,為研究和工業應用提供先進的薄膜沈積能力。Workstation憑借其高性能的濺射機構、精密的真空設備、多功能的沈積室、磁控管濺射源以及直觀的控制軟件,為研究人員和工程師提供了探索和優化薄膜材料和性能的強大工具。
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