二手 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 314 #9206551 待售

TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314（一種濺射設備）來自TEL（NEXX），是一種可自訂且高度配置的濺射系統，旨在以低成本製造高品質薄膜。TEL Nimbus 314利用了由三個獨立目標組成的三板設計，允許用戶同時濺射多個晶胞或金屬。濺射膜還可以針對電阻、結晶度、潤濕特性等特性進行精確調諧，讓用戶創造出符合其精確要求的獨特精準膜。NEXX Nimbus 314利用獨特的磁密閉等離子體源，在目標腔室中產生比其他濺射系統更高濃度的離子。這導致更高的沈積速率和更大的均勻性在濺射膜，減少汙染的可能性，使其成為理想的大體積應用。磁密閉等離子體源也允許Nimbus 314處理廣泛的目標材料，從貴金屬到合金和半導體材料。TOKYO ELECTRON Nimbus 314旨在最大限度地提高效率和靈活性。它有一個可調節的供應單元，可以配置為提供各種電壓和基板，以確保目標材料被有效和一致地濺射。它還具有可用於精確角度調整的角度不變離子槍，以及用於增加可用濺射面積和定心精度的可調入射角。TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314還具有直觀、易於操作的用戶界面，使其成為有經驗的專業人士和新用戶的理想選擇。它還配備了一套用於監控膠片增長的工具，以及用於調整各種參數以實現最大效率和可重復性的自動化流程。此外，該機器還內置了安全功能，旨在保護用戶免受意外接觸濺射材料的傷害。綜上所述，來自TOKYO ELECTRON的TEL Nimbus 314 （TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX）是一款配置性強、效率高的濺射工具，旨在獲得最佳性能和優越的薄膜質量。它提供了高度的靈活性，允許用戶定制他們的影片，以滿足他們的確切要求。這一資產利用強大的磁密閉等離子體源產生濃度更高、覆蓋範圍更均勻的離子，從而產生更一致的沈積速率和更高質量的薄膜生長。此外，它還配備了全面的用戶界面和各種自動化流程，以提高效率和安全性。