二手 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 364 #9202788 待售

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ID: 9202788
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Sputtering system, 12" Nimbus XP-RDL system (354): 8"/12" Includes: MAGNETRON: G1 HP (Ti) MAGNETRON: G1 HP (W) MAGNETRON: G1 HP (Al) (3) MAGNETRONS : AL HP (Al) ICP Etch Second cryo pump: Deposition chamber RF Substrate bias Load lock degas (2) ESC Trays: 12" Additional cable length EMO State SECS/GEM 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 364是專為半導體和光子應用而設計的最先進的濺射系統。它為制造LED、太陽能電池、顯示器和圖像傳感器等復合半導體器件提供了高度的工藝控制和精度。TEL Nimbus 364的高級DC和Hi-Bias射頻濺射工藝提供業界領先的工藝能力。它利用動態過程控制(DPC),這是一種先進的濺射技術,通過控制電源振幅和負偏置脈沖頻率,可以對沈積量進行精細調整。這種工藝控制能力保證了優質材料的生產,並具有一致的重復效果。NEXX Nimbus 364還具有雙頻電源,提供高達480W的高功率級別,同時還提供了雙頻操作的靈活性。這種雙重能力有助於減少沈積過程中電弧的發生率,從而提高整個過程的精度。此外,「窗口」聯鎖安全功能有助於防止在過程中檢測到任何故障時損壞基板或部件。該系統獨特的負載鎖允許快速、方便地裝載和卸載基板支架,確保快速、高效的操作。類似金剛石的碳塗層增強了腔室和基板的性能,提供了更高的精度和更高的耐用性。高溫限值設置為368.2 °C,可提供卓越的熱容量,而方便、符合人體工程學的控制面板可提供對過程的一次觸摸控制。Nimbus 364為操作員提供了可靠一致的濺射工藝,專為滿足當今半導體應用的要求而設計。TOKYO ELECTRON Nimbus 364系統憑借其先進的工藝控制能力、優越的材料規格以及增強的耐用性,是滿足半導體行業不斷發展的需求的有效解決方案。
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