二手 TEL / TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD #9212338 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD（物理氣相沈積）是一種濺射設備，設計用於瞄準多種材料和用途。這種最先進的儀器具有高精度技術，允許改進工藝能力。該濺射系統采用TEM（薄膜電子乘法器單位）設計。這臺機器允許自動校正輸入數據錯誤，同時保持等離子體的準確性。這一特性允許提高工藝產量，從而產生質量更好的電極產品。PVD還采用了獨特的高縱橫比腔室設計。這種設計在提高過程均勻性的基礎上提供了室內大氣動力學的最佳控制。腔室設計還方便了更快的濺射時間，讓客戶最大限度地提高批量產量和吞吐量。TEL Nexx Nimbus PVD提供了廣泛的可交換多個電極範圍。此功能為客戶提供了選擇電極的靈活性。這些電極可以定制以滿足其特定需求，讓客戶針對不同的材料優化自己的特定工藝。TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD也有集中式操作控制面板。此功能允許輕松查看操作狀態,並允許實時診斷。這允許用戶執行快速診斷和故障排除,從而最大限度地減少停機時間並最大限度地提高吞吐量。此外，Nexx Nimbus PVD還具有各種工藝選擇，包括：氧化、氮化、離子植入、蝕刻和擴散。這種多功能性使客戶能夠輕松調整流程以獲得最佳結果。綜上所述，TEL/TOKYO ELECTRON NEXX Nimbus PVD是一種最先進的濺射工具，提供增強的精度和控制。這一尖端資產具有獨特的腔室設計、多個可交換電極以及一系列工藝選項。所有這些特性都可以提高產量和生產優質產品。