二手 TEL / TOKYO ELECTRON PDU-MKIV #9226264 待售

TEL/TOKYO ELECTRON PDU-MKIV濺射設備是一種多功能裝置，設計用於在多種基板上沈積薄膜。該濺射系統采用平行板磁控管（PPM）濺射技術，利用兩個靜態磁體產生電離等離子體。然後，該等離子體用於為沈積過程提供均勻的定向物料來源。TEL PDU-MKIV擁有無質量基板支架，內置RF（射頻）功率控制，以及多氣體噴射單元。本機最多可容納三個濺射源，其中一個源專用於旋轉濺射源。其先進的技術和堅固的結構確保了清潔、一致的結果和可重復的準確性。TOKYO ELECTRON PDU-MKIV有四個獨立的工藝室，以確保清潔的工作環境。第一個腔室裝有一個轉盤，可以處理直徑達300毫米的基板，利用晶圓提升機構來裝卸基板。第二室裝有一個具有壓力反饋控制的反汙染工具，用於減少或消除來自顆粒或其他非監測氣體的汙染。第三室裝有濺射源，所需材料在真空室中蒸發。用戶可以控制濺射過程的速率和能量，以產生所需的膜厚度和組成。最後的腔室容納沈積工具，其中鋁合金、鉬、鎢等金屬被加熱熔化，直至在基板表面形成均勻均勻的薄膜。PDU-MKIV配備了先進的診斷工具和數據分析軟件，以方便對資產規格和濺射過程進行快速和健全的調查。該車型還配備了多種人性化的安全功能，如真空違約報警和安全互鎖。總之，TEL/TOKYO ELECTRON PDU-MKIV是一種通用的濺射設備，能夠以可重復的精度將薄膜精確沈積在各種基板上。它配備了高級診斷工具和數據分析軟件,以確保用戶能夠在需要時快速調查和排除系統故障。