二手 TOKUDA CFS-4ES #9254477 待售

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TOKUDA CFS-4ES
已售出
製造商
TOKUDA
模型
CFS-4ES
ID: 9254477
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6".
TOKUDA CFS-4ES是為大規模生產薄膜沈積而設計的高性能濺射設備。該產品以其多才多藝的特點和先進的技術量身定制,以滿足客戶的工業需求。濺射系統能夠同時運行四個氣動源,保證了過程的一致,大大提高了生產效率。該機配備了功能強大的4源直流磁控管濺射電源,可為每個源提供高達2000瓦的濺射功率。它與一個自動控制單元相結合,可以精確調整壓力、比例、沈積目標幾何形狀和濺射速度。CFS-4ES由多種組件組成,例如一個先進的腔室,該腔室設有光學透明的石英窗和一個掃描電子顯微鏡,用於觀察濺射過程。它的真空室還有一個集成的測溫機和一個低溫工具來控制基板的溫度。此外,它還具有啟動和停止功能,有助於防止低溫沈積造成的汙染。TOKUDA CFS-4ES還提供了廣泛的沈積材料,包括金屬、氧化物、氮化物、聚合物、合金等。這使得它可以用於介電材料、光學塗層、催化塗層、硬磨損塗層和儲能裝置等多種應用。該資產支持直徑從25毫米到300毫米的各種工藝和基板尺寸,並具有浮動基板支架,可確保基板和濺射目標之間的最佳接觸。此外,該機器易於操作,並配有一個用戶友好的控制軟件,用戶可以方便地監控和校準過程。此外,CFS-4ES包括一個後處理模型,確保底物在從濺射過程中釋放之前得到充分處理。這有助於確保基材的質量在過程中不會受到損害,並允許材料的均勻沈積。綜上所述,TOKUDA CFS-4ES濺射設備是一種先進的濺射系統,可用於薄膜沈積的生產。它能夠支持廣泛的材料和流程,其用戶友好的控制軟件使其易於操作和監控。此外,它的後處理單元確保基材的質量不會在過程中受到損害。
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