二手 TOUSIMIS Samsputter IIA #126410 待售

TOUSIMIS Samsputter IIA是一種PVD（物理氣相沈積）濺射設備，廣泛用於生產薄膜塗層，用於多種工業和科學應用。Samsputter IIA與DC、Pulse DC和RF濺射等多種PVD工藝配合部署,可將多種材料沈積到基板上。它被設計為與廣泛的等離子體蝕刻工藝結合使用，以生產多種先進材料。TOUSIMIS Samsputter IIA能夠產生超過0.8 μ m/min的沈積速率,並能精確控制塗層的厚度和質量。它具有低真空設計，能夠維持高達0.5 Pa的疏散水平，而不會降低薄膜沈積的質量。先進的設計還可以使塗層厚度在整個基板上保持出色的均勻性和一致性。該系統配備了先進的電子封裝，包括嵌入式基於Arduino的處理單元和直觀的圖形用戶界面（GUI）。這樣可以對沈積速率、目標壓力、沈積溫度等參數進行精確的編程和控制。內置傳感器還提供有關沈積膜質量的反饋。為了確保一致、可重復的結果，Samsputter IIA配備了高功率關機開關和濾波器完整性監控等高級安全功能。此外,由於其模塊化設計,它易於與現有的PVD流程和系統集成。此外，TOUSIMIS Samsputter IIA還設計用於容納各種基材和薄膜。增強的石墨基板、陶瓷膜和氧化膜只是使用這臺機器可以沈積的幾種材料。總體而言，Samsputter IIA是一種先進的高質量濺射工具，可用於廣泛的行業和科學應用。它易於使用和配置，其先進的特點使其成為生產薄膜塗料的理想選擇。