二手 TOUSIMIS Samsputter IIA #141766 待售

TOUSIMIS Samsputter IIA是一種多功能的濺射設備，專為各種薄膜沈積需求而設計。該系統結合了兩把濺射槍，其中一系列材料可以濺射，而定向離子束則細化了薄膜的形狀。這樣可以精確控制被沈積薄膜的厚度和組成。Samsputter IIA有廣泛的工藝參數可以調整。其工作溫度範圍在25°C至75°C之間，薄膜的處理時間為0.1至15秒。離子源可以在30瓦至1000瓦的直流或射頻功率下運行，為適應各種沈積過程提供了靈活性。兩支濺射炮裝有多種可以容納一系列沈積品質和鋁、鉻、矽、鈦等底物的目標。TOUSIMIS Samsputter IIA還配備了一個下腔，允許在沈積過程中使用氮氣、氙氣、甲烷等工藝氣體。這有助於提高薄膜的穩定性，可用於反應性濺射過程。Samsputter IIA有多種參數可以通過壓力表和監控器指示，從而可以精確控制沈積過程。它還有一個冷卻的下傾角控制器，具有可變溫度設置範圍，可以調整以優化沈積條件。除了用戶友好的控制面板之外，TOUSIMIS Samsputter IIA內置了多種安全功能。它配有緊急停止按鈕、電源故障保護和離子源監控單元,如果機器在預設參數之外工作,則會向操作員發出警報。Samsputter IIA操作簡單、可靠，能夠滿足各種薄膜沈積需求。它堅固的結構和高性能的特點使它成為那些需要可靠濺射工具的人的絕佳選擇。