二手 TRIKON / ELECTROTECH MS 6210 #9266539 待售

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ID: 9266539
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6" (2) Power supplies, 12 kW Sputter etcher CELTEK CM 13-6 RF Generator Metals used: Cu, Cr, TiW, Au, Ti (2) Targets: Cr and Ti Ar Gas Shutter CTI-CRYOGENICS SCW Cryo compressor Spare parts: PCB Gauge Power supply: 400 V, 50 Hz.
TRIKON/ELECTOTECH MS 6210濺射設備是一種高精度、高性能的濺射系統,設計用於各種薄膜沈積和分析應用。該裝置采用磁控管濺射技術,在廣泛的基板和材料上提供可靠且可重復的薄膜沈積。該機具有雙陰極真空室、數字過程氣體和壓力控制,以及用於監測沈積過程和監測產品質量的集成高分辨率光學檢測工具。資產具有獨特的雙陰極布置,允許同時沈積兩種不同的薄膜,如氧化物、氮化物和金屬。不斷監測和調整沈積速率和組成,以達到最佳性能。TRIKON MS 6210還具有可調節的工藝氣體和壓力控制模型,可配置為為每個應用提供最佳沈積條件。該設備采用高分辨率光學器件,以監測薄膜沈積過程,保證高質量沈積。光學系統集成了高分辨率數碼相機和精密軟件,用於自動分析沈積速率、組成和產品質量。軟件還允許詳細分析基板均勻性、層厚度、粗糙度和其他屬性。該單元由一臺功能強大的計算機控制機器支持,包括一個針對不同沈積過程的配方綜合庫。計算機控制工具設計方便用戶,對沈積過程和數據采集提供精確控制。配方和設置可以很容易地修改和存儲以備將來使用。該資產在薄膜沈積和分析應用中具有較高的性能和準確性。其體積小巧,便於在制造生產線中安裝。該型號還兼容了廣泛的配件和組件,如防護護罩、基板支架、防濺器、除塵系統等等。電工MS-6210濺射設備是薄膜沈積和分析應用的理想選擇。其高精度沈積速率、組合物控制和高分辨率光學器件可提供可靠和可重復的結果。該系統的各種兼容組件和附件使其成為各種制造和研究應用的通用解決方案。
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