二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9051782 待售

ULVAC Ceraus Z-1000濺射設備是一種用於金屬和其他薄膜物理氣相沈積的高性能工具。濺射系統利用先進的薄膜沈積技術，實現了精密的薄膜沈積，具有極好的重復性和較高的沈積比，具有較高的均勻性和厚度性能，且刀具之間的變化較小。該單元由三個允許獨立運行的2腔系統和多達六個差動泵送節點組成，以實現優異的真空性能。此外，Ceraus Z-1000機器具有雙過程能力，能夠同時進行兩個沈積過程，最多可有12個濺射源。ULVAC Ceraus Z-1000工具配備接地陰極平面（GCP）技術,是一種創新的電子轟擊輔助濺射原位控制。GCP技術保證了基板的最佳偏置和優越的均勻性控制.該資產設計用於半導體沈積，包括電介質、金屬、多應變材料和鈍化層，以及半導體生產中經常使用的其他層。它具有幾種用戶友好的功能,如自動配方控制、雙室濺射功能和易於使用的過程控制。各種控制功能和操作都可以使用用戶友好的軟件進行配置。其中包括重復運行、配方設置、溫度和氣體控制以及速率監測和反饋。這樣就可以對沈積過程進行更好的控制。Ceraus Z-1000模型還能夠進行均勻的薄膜沈積和塗層，以及對沈積過程進行先進的「原位」監測，以確保高質量的結果。具有高度均勻沈積角度的側壁濺射源有助於薄膜在晶片上均勻均勻。ULVAC Ceraus Z-1000專為要求苛刻的半導體工藝應用而設計,它提供一流的性能和令人印象深刻的可重復性。它提供了在濺射過程中可靠的薄膜沈積所需的高級特性，使其成為一種高度可靠的工具。