二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9083925 待售

ULVAC Ceraus Z-1000是為薄膜沈積設計的先進濺射設備。它是一個小巧、高性能的系統,采用了新的濺射源設計,可實現高濺射速率、改進的沈積均勻性和更高的速率吞吐量。濺射源采用先進的直流電磁控管濺射技術，具有較高的沈積速率，具有良好的均勻性和薄膜輪廓。此外，該裝置還采用了精密的溫度和壓力控制，提供了出色的工藝控制和可重復性。Ceraus Z-1000具有強大的計算機對準控制機器,可自動控制諸如電壓、壓力、氣流和基板溫度等濺射參數。這確保了各種不同薄膜材料的最佳沈積。該工具包括一個具有5區加熱能力的T/E藍寶石FE高溫反應堆（HTR），一個功率為12千瓦的高功率密度直流電子回旋共振（ECR）源，以及一個完全集成的正常和高真空泵單元。ULVAC Ceraus Z-1000資產非常適合許多薄膜應用。可用於金屬、半導體、介電、有機/光刻膠膜的沈積。它最多支持四個示例,這些示例可以以正方形或圓形配置同時加載。該模型具有高達107 angström/s的快速濺射速率,能夠快速高效地生產出高質量的薄膜。此外，Ceraus Z-1000還具有先進的診斷能力，包括現場X射線分析以及光學和電子顯微技術。該設備還包括集成的AutoTuneTM軟件，允許對濺射過程進行簡化優化。該系統能夠簡單直觀地控制所有工藝參數，確保沈積工藝的可重復性和可重復性。ULVAC Ceraus Z-1000是薄膜沈積工藝的理想工具。它具有緊湊的設計和強大的計算機對齊控制單元，提供出色的過程控制和可重復性。憑借其高濺射速率、高功率電子回旋共振（ECR）源以及原位診斷能力，Ceraus Z-1000為滿足任何薄膜沈積項目的需求提供了極大的靈活性。