二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9156845 待售

ULVAC Ceraus Z-1000是一種用於蝕刻和沈積薄膜材料的多功能濺射設備。該Z-1000配備了各種組件和功能,可以實施各種材料和過程。提供高速率均勻性，可重復性± 2%，顯著的層均勻性，相對方差<2%。該系統廣泛應用於半導體和光電工業，用於氧化物、氮化物、導電金屬膜以及金屬如銅、金、鋁合金在基板上的沈積。濺射單元利用逐塊直流蝕刻獲得面積覆蓋均勻的高清薄膜。它具有低溫濺射過程，可以對沈積速率和均勻性進行高度精確的控制。該Z-1000還具有最佳濺射所必需的高真空，並包括一個離子電源，以提供精確的控制粒子與基板的轟擊。該Z-1000能夠沈積金屬、合金和氧化物，可以加工多種基材，包括矽、石英、石英襯裏玻璃等等。它允許1 x 10-5至8 x 10-1 hPa的可調壓力範圍，並且可以提供10-200V dc的最大底物偏差。該機具有9英寸到12英寸的晶圓取向，允許使用各種晶圓尺寸。它還具有在2°C和130°C之間的溫度控制， 以及50-550 W. Ceraus Z-1000的濺射功率範圍，其工作距離為360 mm，用於同時裝卸基板， 並配有歐瑞康Leybold幹泵，可達到<4x10-7 Pa的最大真空水平。此外， 該工具帶有自動晶片裝載機和負載鎖，可簡化和自動裝卸基板。基於Windows的集成軟件可以監視和記錄所有與處理相關的數據，並幫助優化必要的參數，如基板溫度、濺射功率、轉速等等。該軟件還允許客戶設置和存儲多個處理條件供以後使用。總體而言，ULVAC Ceraus Z-1000濺射資產是為在基板上蝕刻和沈積薄膜而設計的，用途廣泛，足以管理各種材料和工藝。其先進的特點，包括低溫處理、可調真空水平和自動基板載荷，使Z-1000成為濺射沈積和蝕刻氧化物、金屬和合金的理想選擇。