二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9400323 待售

ULVAC Ceraus Z-1000是一種濺射設備，設計用於將金屬和絕緣體薄膜以精確控制的厚度沈積在一系列基板上。該系統由一個離子源、一個腔室和一系列無烴泵送口組成。離子源由射頻發生器供電，為均勻濺射提供高密度離子。腔室由鋁或不銹鋼制成，溫度控制在± 2°C以內。在目標驅動器上安裝了一系列水冷目標，目標預先塗上一種ConAg溶液，以防止除氣和盡量減少汙染。該Z-1000采用單極磁控管濺射工藝，永磁體具有強大的磁場，確保薄膜在整個晶片上均勻沈積。腔內的組分相互隔離，以確保離子源和沈積過程之間沒有幹擾。氣體入口、外部氣源和氣體質譜儀的可調配置允許精確控制壓力和氣流等工藝參數。該Z-1000還設有一個現場監測單位，對沈積過程進行實時分析。本機記錄膜的輪廓、沈積速率等數據。根據預期結果對薄膜特性進行沈積後分析，而不必停止該過程。Ceraus Z-1000是一種高度精確的濺射工具，采用先進的等離子體技術來實現均勻的薄膜沈積。它提供了對工藝參數的精確控制，並提供了對沈積工藝的精確控制的現場監測。該資產適用於各種基材上的一系列金屬和絕緣體。該Z-1000是用於研究和設備應用的高效工具。