二手 ULVAC CERAUS ZI 1000 #9378914 待售
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單擊可縮放
ID: 9378914
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
Sputtering system, 8"
CIM: SEMI Auto to CTC
Sputter Zi (LTS with sputter etcher)
PF
(6) Chambers
Transfer, LLA And LLB Chamber
P1 - ICP Etcher
P2 - Degas
P3 - ICP Etcher
P4 - LTS (Ti/TiN)
P5 - LTS (Ti/TiN)
P6 - LTS (Ti/TiN)
Loadlocks:
LLA VCE4, (30) Metal stocker slots
LLB VCE4, (30) Metal stocker slots
Hardware configuration:
Chamber 1: ICP
Chamber 2: Degas
Chamber 3: ICP
Chamber 4: LTS
Chamber 5: LTS
Chamber 6: LTS
In-aligner
In-cooler
Mainframe: BROOKS M800
Wafer mapping: Standard
Transfer MAG 7.1 Robot
Transfer armset MAG 6
3-Axis Bi-symmetric dual frogleg
ULVAC C30ZR Helium compressor
RISSHI CS-1700H Chiller
Handler System
Cables
Metal cover
Power supply rack
Computer with rack
Pump
Front panel
Raise platform & accessories
Process:
Chamber 1: Etch
Chamber 2: Degas
Chamber 3: Etch
Chamber 4: Ti/TiN dep
Chamber 5: Ti/TiN dep
Chamber 6: Ti/TiN dep
Wafer notch alignment
Cooler
Generators:
Chamber 1: DC 1, DC 2, ULVAC RFS05C, RF, AC Bias
Chamber 2: DC 1, DC 2, RF, AC Bias
Chamber 3: DC 1, DC 2, RF ULVAC RFS05C, AC Bias
Chamber 4: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 5: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 6: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Turbo pumps:
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 403LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
1998 vintage.
ULVAC CERAUS ZI 1000是由真空塗層設備領先的高科技制造商ULVAC（Ultra-Low Vacuum Apparatus Corporation）制造的濺射設備。該系統使用陶瓷靶和電離惰性氣體如Ar或He，用一層所需材料塗覆多種材料。目標被放置在真空室中，離子被強大的調制電壓源加速向目標。加速離子與目標的碰撞產生了納米大小粒子的大氣，使塗層材料以精確的方式附著在觀察到的基板上。ULVAC CERAUS ZI-1000提供獨特的性能功能,使其在其他濺射系統中脫穎而出。其先進的溫度控制單元允許精確的溫度控制和穩定的操作，即使在長時間的操作。這有助於確保塗層在整個過程中保持一致。它還具有預燃機，減少啟動時間和提高效率。該工具旨在提供塗層材料的均勻沈積，在整個基板上具有高均勻性和優異的顆粒密度。CERAUS ZI 1000具有集成真空資產，允許低壓沈積。該型號最大真空度為1 x 10-3 Torr，使塗層材料能以更高效的直線向基板行進，從而對塗層厚度進行更大的控制。它還具有水和安全聯鎖以及激光障礙物，以確保安全。CERAUS ZI-1000能夠在所有類型的反應性濺射和熱蒸發應用中提供優異的效果。它非常適合在從聚合物到高度敏感的半導體的各種基板上實現精確塗層。它以其可靠的制造和卓越的性能而聞名，非常適合廣泛的工業應用。
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