二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #196190 待售

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ULVAC Ceraus ZX-1000
已售出
製造商
ULVAC
模型
Ceraus ZX-1000
ID: 196190
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
PVD sputtering system, 8" H2 anneal + (2) PVD chambers Built-in SMIF Software version 2.11C Vacuum pump included Cu contamination 2001 vintage.
ULVAC Ceraus ZX-1000是一種用於將薄膜材料沈積到各種基板上的濺射設備。該系統采用磁控管濺射技術,可沈積高純度、粘附膜,具有良好的步長覆蓋率和良好的可重復性。該裝置還具有較高的過程吞吐量和可靠的過程控制機。該工具采用線性軌道設計,可實現更高的沈積速率,從而實現有效的零點性能。軌道有一個大的8×8英寸的工藝區域,每個基板位置都有獨立的位置調整。對於更精確的薄膜沈積,每種底物都可以在定位器內單獨調節。該資產還具有三個工藝室-兩個用於Sputter和一個可選的沈積室-它們可以獨立操作或以混合模式運行,以優化薄膜塗層。該模型能夠沈積金屬、合金、陶瓷材料、有機材料等多種薄膜材料。它具有廣泛的濺射目標、沈積排放和加工氣體。該設備還采用了具有原位烘烤能力的真空排氣系統。ULVAC CERAUS ZX 1000具有執行二維和三維沈積模式的能力,其自動掃描模式控制以及為各種應用程序配置一系列體系結構的靈活性。該裝置非常方便用戶,在沈積過程中能夠精確控制。它有一個可視操作屏幕,使快速設置和易於監控。集成的數據鏈路提供了目標和基板之間沈積數據的實時傳輸,以最大限度地提高產品的整體質量。監測工藝水平,調整功率和電流,以便為沈積提供最佳條件。可以存儲和調用設置以實現進程可重復性。Ceraus ZX-1000專為超高沈積速率而設計,適用於各種工業應用,從半導體器件的生產到先進材料的原型設計。它是一種可靠高效的機器,能夠生產高質量的薄膜塗層,具有極好的可重復性。
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