二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #9078343 待售

ULVAC Ceraus ZX-1000濺射設備用於物理氣相沈積、爆炸性蒸發和等離子體增強化學氣相沈積等應用。它的大面積、三目標設計允許高速濺射，以實現卓越的膜均勻性，並允許沈積在大基板尺寸。這是一個完全自動化的過程，是適應挑戰厚序列。ULVAC CERAUS ZX 1000濺射系統包括一個超高真空室，能夠達到低至1x10-6 Pa的壓力。這種高真空水平是確保高質量沈積所必需的。腔室裝有低發射、線性感應磁控管和三重目標。線性感應磁控管允許在低於其他設備的溫度下沈積，同時還能在大面積上保持均勻沈積。三重目標配置允許三個目標中的每一個都有不同的沈積速率,從而提供卓越的均勻性。該ZX-1000提供了極好的沈積均勻性，即使具有挑戰性的材料和結構。該單元還可以加工尺寸小至100 mm x 150 mm的柔性基板，以及最大至1000 mm ²的較大基板。ZX-1000的一個獨特特點是其高度可配置的氣體輸送機，允許不同的沈積過程，如等離子體增強化學氣相沈積和反應性濺射。該工具還允許廣泛的工藝參數，如目標偏置的控制、底物溫度、陰極電壓、底物偏置和除氣。Ceraus ZX-1000 Sputtering Asset提供卓越的質量和均勻性,能夠執行復雜的沈積過程,非常適合需要精確沈積薄膜和結構的應用。其先進的特性使其成為大批量生產薄膜光學塗層、薄膜太陽能電池、激光二極管、傳感器等設備的強大工具。