二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #9274945 待售

製造商
ULVAC
模型
Ceraus ZX-1000
ID: 9274945
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Sputtering systems, 8" Turbo pump: TMP 202LM Reflow Degas Ti/TiN LTS Ti Al Cryo pump: Cryo-T8PN With (4) RS5 Refrigerators 1996 vintage.
ULVAC Ceraus ZX-1000是一種濺射設備,設計用於薄膜沈積技術的廣泛應用。利用高頻射頻(RF)反應性濺射產生厚度均勻、密度高、應力低、電學和光學性能優異的薄膜。利用這一技術,薄膜可以應用於任何形狀或大小的金屬、玻璃或陶瓷基板,提供了量身定制薄膜性能並最終打造復雜結構的能力。ULVAC CERAUS ZX 1000具有模塊化設計,可以將其配置為滿足給定應用程序的特定要求。它有兩個會議廳;一個工藝室和預處理室。在工藝室中,射頻濺射用於在受控環境下將薄膜沈積在基板上。該室采用基座頻率濺射系統,可實現高沈積速率和工藝參數的精確控制。在預處理室中,可以實現脫氣、輝光放電、輕O2蝕刻等多種膜制備技術。該單元配備了一個先進的軟件包,旨在對整個沈積過程進行高效和精確的控制。它具有多個高級功能,包括真空清潔周期、自動恢復保護、在預設條件下停止以及數據日誌記錄。該機還設計為用戶友好,具有直觀和可定制的操作。射頻濺射工藝可用於沈積金屬、氧化物、氮化物、合金膜等多種薄膜材料。這些薄膜可以以幾納米(nm)到幾毫米的厚度沈積,可用於半導體、平板顯示器、光學元件和醫療設備等應用。Ceraus ZX-1000還具有塗抹防反射塗層、防護塗層和裝飾性氧化膜的能力。CERAUS ZX 1000通過其高度先進的特性和功能,是一種高度通用和有效的濺射工具。其模塊化的設計和精密的軟件使得任何特定的應用環境下的定制變得容易,其堅固的結構確保了質量的薄膜沈積和可靠的操作在未來幾年。
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