二手 ULVAC Cryo-T12CBH #9380745 待售

ULVAC Cryo-T12CBH濺射設備是一種尖端濺射工具，能夠實現金屬薄膜的高速率沈積。該系統為成本、功率和工藝優化而設計，真空範圍為1x10-7 ~ 3x10-3 Pa，還能生產出均勻性極佳、平整度完美的超高純度金屬膜，總厚度可控範圍為1 ~ 3,000 nm。Cryo-T12CBH配有先進的低溫冷卻裝置，用於沈積過程中將基板冷卻至-180 °C。這保證了在整個基板上可以達到均勻的膜沈積速率，從而產生更均勻的層厚度。該機還包括一個電子束源，用於底物預清洗。預清洗消除了表面粘附，降低了金剛石般的碳層粗糙度，改善了膜沈積前基板的表面質量。ULVAC Cryo-T12CBH具有較高的沈積速率，獨立的溫度控制工具，加上均勻的氣體流速，可以對工藝室環境進行精確的控制。這導致最小的金屬吸收到基板和更高的沈積速率。濺射資產還有一個可選的預電離室，用於修改氣體分子進入過程室的行為。這有助於減少等離子體從生長中的膜中解吸的問題，從而導致更高的結構膜完整性。Cryo-T12CBH能夠通過使用紫外線輔助來提高薄膜硬度和粘附強度,紫外線輔助包括在濺射過程中監測到的紫外線照射到基板上。這有助於減少薄膜的缺陷，提高薄膜的長期可靠性和穩定性，從而使沈積更加均勻和平坦。ULVAC Cryo-T12CBH的設計可滿足各種應用要求,包括過層塗層、粒子束沈積、多層薄膜堆棧和低溫氫氣處理。這種濺射模型是將金屬薄膜濺射到各種基板上的最高效、最具成本效益的工具之一。憑借其先進的技術和耐用性，Cryo-T12CBH是任何濺射應用的可靠選擇。