二手 ULVAC CV-200 #9251716 待售

ULVAC CV-200是一種用於各種薄膜沈積應用的濺射設備。它主要用於將薄膜沈積到各種基板上，以實現所需的電氣、光學或熱特性。濺射系統用途廣泛，為更高的沈積速率和更高的粒子密度提供等離子體電離。該單元由高真空濺射室、加熱冷卻機、旋轉基板臺以及離子源、質譜、薄膜沈積API等多種高真空組分組成。濺射室配有四個大功率磁控管濺射源，均勻膜沈積的強大反向磁控管模式，以及精確控制參數的先進數字控制。加熱和冷卻工具由水冷陶瓷加熱元件Peltier冷卻器和液氮冷卻資產組成，可快速冷卻和加熱速率高達500 °C。旋轉基板表具有可變的旋轉速度、旋轉暫停和啟動功能以及用於精確均勻薄膜沈積的自動基板定向。該模型采用先進的離子源技術，具有創新的空心陰極電離器和血漿電池。還提供了一個可選的第二離子源，它使用具有空心陰極發射器和產生更高離子和粒子密度的平面電離器的雙源構型。該設備還具有質譜功能，可以分析濺射沈積物中的活性物種，以便對其進行監測。還包括一個先進的薄膜沈積API，用於使用數字信號的高級過程監測和控制。這允許用戶定義沈積參數，運行模擬來優化過程，輕松保持理想的沈積速率和均勻性。ULVAC CV 200極易使用，提供優異的薄膜沈積效果。它提供了廣泛的可自定義參數,使用戶能夠使系統適應其特定的應用程序。它具有較高的沈積速率和精確的均勻性，是各種薄膜沈積需要的理想選擇。