二手 ULVAC EBX 2000 #9243792 待售

ULVAC EBX 2000是一種濺射設備，設計用於制造薄膜，用於開發、生產和質量控制。該系統提供高通量、低維護的薄膜沈積，具有優異的均勻性和薄膜性能。ULVAC EBX-2000易於操作,可處理多種材料和沈積應用。該單元采用雙室設計，由源室和負載鎖室組成。這種設計允許機器同時容納兩個目標，從而允許更高的吞吐量。負載鎖室可容納樣品處理,以便源室保持清潔,並且沈積過程不受幹擾。EBX 2000的Source Chamber由ICN型磁控管源主板、等離子體源、機械泵、擴散泵和背襯泵組成。ICN型磁控管源為濺射過程提供初級能量。它驅動等離子體並產生高度密集的高能離子束。然後將此光束定向到目標上,導致目標材料從其表面彈出並沈積到基板上。機械、擴散和背襯泵為保持源腔清潔和不受汙染提供了連續吸力。EBX-2000提供了廣泛的沈積過程，從低溫到高溫。它還能夠濺射蝕刻，允許從樣品中去除薄膜或薄層。該工具可以通過控制薄膜厚度和目標基板距離來實現卓越的均勻性和可重復性。此外,集成的自動化配方功能使操作員可以輕松地在配方和流程之間切換。利用ULVAC EBX 2000,用戶可以實現高效薄膜沈積的高度均勻、可重復的濺射過程。它設計多種多樣,而且用戶友好,因此非常適合開發和生產應用程序,確保了一致的質量和性能。